HfCl4≥99%，Zr≤0.02%、Fe≤0.075% 高纯HfCl4≥99.9%，Zr≤0.02%、Fe≤0.040%
状态：粉体或块状；氯化法制备，超干无水 低锆、低镍及其它金属杂质含量可定制
用途：超高温陶瓷、前驱体、金属铪制备原料
规模：可吨级供应满足半导体用精四氯化铪
