锆靶

锆靶

纯度:Hf≥99.9%,其他金属杂质<0.1%

特点:高纯低氧低锆

规格:直径40mm,厚度3mm,可按需定制

用途:应用于机械、化工、航空、航天、核工 业薄膜制备溅射靶